超純水系統跟著電子工業的發展，在芯片的出產加工過程中，對于水質的要求也越來越高。為了保證出產出超大規模的集成電路，除高純原材料、高純氣體、高純化學藥品外，高純水也是其中最要害的因素之一。

      超純水系統高純水系統是將一般的市政用水處理成對不同離子的含量和顆粒度都有很高要求的超純水。超純水系統總體來說一般可分為三個部分：超純水制造區（CUB部分）、超純水拋光循環區（FAB部分）、超純水輸送管網（FAB各使用區）。其中超純水制造區最為復雜，其又可分為：預處理、一次純水處理、超純水處理三個部分。

      超純水系統預處理部分首要包含：沙濾、活性碳塔（有的廠商在沙濾前還增設反應槽、氣浮池）；一次純水處理部分首要包含：陰陽離子交換塔、脫氣塔（DG）、保安過濾器、紫外線殺菌器及多級反滲透；超純水處理部分首要包含：MDG（脫氧膜組）、TOC-UV殺菌器、混床（MB）及終端過濾器?？紤]到在向工藝設備輸送高純水過程中，輸水管道會對水質再次造成污染，因而在FAB內一般都設立拋光循環系統。拋光循環系統首要以MB為核心，再加上超濾設備（UF），以除去在向工藝出產線輸送純水的過程中，管網溶入水中的雜質。

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